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商品描述
以四氟化硅為原料，采用OVD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，吸收系數(shù)低，光學(xué)均勻性好，可用于IC光掩膜基板、工業(yè)激光聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、高能激光光學(xué)元件的制造。
產(chǎn)品指標(biāo)
| 型號(hào) | 金屬雜質(zhì) （ppb）） | 羥基 （ppm） | 均勻性 | 條紋 | 應(yīng)力雙折射 （nm/cm） | 尺寸 （mm） | 波段 （nm） |
| HOSQ-031 | ＜200 | ＜1 | I級(jí)：＜5×10-6 II級(jí)：＜10×10-6 III級(jí)：＜20×10-6 | 1D | ＜5 | D300 | 190-3200 |
備注：可根據(jù)使用尺寸定制生產(chǎn)方案
金屬雜質(zhì)含量
單位：ppb
| Al | Ba | Ca | Cr | Co | Cu | Fe | K | Li | Mg | Mn | Ni | Na | Ti | 含金量 |
| ＜5 | ＜5 | ＜5 | ＜2 | ＜2 | ＜2 | ＜5 | ＜5 | ＜5 | ＜5 | ＜2 | ＜2 | ＜5 | ＜5 | ＜100 |
光學(xué)非均勻性
- 購(gòu)買(mǎi)人 會(huì)員級(jí)別 數(shù)量 屬性 購(gòu)買(mǎi)時(shí)間
總計(jì) 0 條記錄
- 商品滿意度 ：
-
暫無(wú)評(píng)價(jià)信息
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以四氟化硅為原料，采用VAD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，吸收系數(shù)低，光學(xué)均勻性好，可用于IC光掩膜基板、工業(yè)激光聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、高能激光光學(xué)元件的制造。
￥1800.00￥1500.00 -
以四氟化硅或有機(jī)硅為原料，采用VADD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，光學(xué)均勻性好，可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場(chǎng)鏡、聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、保護(hù)鏡的制造。
￥1800.00￥1500.00 -
以四氟化硅或有機(jī)硅為原料，采用OVD法制造，具有低羥基、低金屬雜質(zhì)含量等特性，光學(xué)均勻性好，可用于LCD光掩膜基板、工業(yè)激光場(chǎng)鏡、聚焦準(zhǔn)直鏡、激光光纖端帽、保護(hù)鏡的制造。
￥1800.00￥1500.00 -
以四氟化硅為原料，采用CVD法制造，具有大尺寸、低雜質(zhì)含量等特性，光學(xué)均勻性好，可用于LCD光掩膜基板、高能激光光學(xué)元件和半導(dǎo)體石英器件的制造。
￥1800.00￥1500.00
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